胡正明：微电子学家，美国国籍。祖籍江苏省金坛市城西马干村。1947年7月出生于中国北京。
1968年台湾大学电机系毕业，获学士学位。
1969年赴美国加州大学伯克利分校留学，1970年获硕士学位。1973年获美国加州大学伯克利分校博士学位。
胡正明是微电子微型化物理及可靠性物理研究的一位重要开拓者，。
对半导体器件的开发及未来的微型化做出了重大贡献。主要科技成就为：领导研究出BSIM。
…………………………
为获得最佳浏览效果，建议您使用谷歌Chrome或苹果Safari浏览器，国产浏览器或手机自带的浏览器往往带有反黄设置或者反VPN设置，可能会阻止您的访问。
为什么要使用VPN？